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2022年度光學(xué)技術(shù)大賞:DLight S系列半導(dǎo)體集成電路晶圓退火系統(tǒng)
發(fā)布日期:2023-02-22
?2023年1月30日,由業(yè)界知名媒體光電匯舉辦的2022中國十大光學(xué)產(chǎn)業(yè)技術(shù)評選最終獎項揭曉,炬光科技DLight?S系列半導(dǎo)體集成電路晶圓退火系統(tǒng)榮膺光學(xué)類技術(shù)獎項。
2023年2月24日,炬光科技受邀出席光電匯“中國十大光學(xué)產(chǎn)業(yè)技術(shù)頒獎典禮及報告會”。在本次報告會中,炬光科技泛半導(dǎo)體制程事業(yè)部副總經(jīng)理顧維一將發(fā)表題為《DLight?S系列半導(dǎo)體集成電路晶圓退火系統(tǒng)項目概述》的報告。歡迎掃描文章底部海報二維碼,免費注冊觀看!
報告摘要
此次報告將分享半導(dǎo)體集成電路晶圓激光退火的研究背景、應(yīng)用背景以及國內(nèi)外技術(shù)發(fā)展水平。隨著半導(dǎo)體制造技術(shù)的不斷發(fā)展和超大規(guī)模集成電路設(shè)計制造能力的不斷提升,激光退火技術(shù)逐漸取代傳統(tǒng)爐管退火技術(shù),成為28nm及以下邏輯芯片制造前道工序中不可缺少的關(guān)鍵工藝之一。激光退火相對于傳統(tǒng)退火,具有選區(qū)加熱、閉環(huán)精準控溫、高能量密度、連續(xù)能量輸出穩(wěn)定等特點,能夠滿足多種退火工藝需求。

獲獎產(chǎn)品
炬光科技DLight?S系列半導(dǎo)體集成電路晶圓退火系統(tǒng)結(jié)合了產(chǎn)生光子的共晶鍵合技術(shù)、激光光源熱管理技術(shù)、熱應(yīng)力控制技術(shù)以及調(diào)控光子的激光光束轉(zhuǎn)換技術(shù)和光場勻化技術(shù),可生成一條線寬70μm,長寬比達160:1的近紅外波段極窄線光斑,提供高達1800W/mm2的連續(xù)能量輸出,在不到1毫秒的時間內(nèi)將晶圓表層原子層加熱到1000°C以上再急速冷卻,從而有效減少前道工序中產(chǎn)生的晶圓電極缺陷,提高產(chǎn)品性能,提升晶圓生產(chǎn)良品率。在光斑長度方向上,該專項技術(shù)可達到>95%的光斑均勻性和>98%的連續(xù)輸出能量穩(wěn)定性,同時還具備工藝點溫度監(jiān)測,輸出光束質(zhì)量在線檢測等附加功能。其產(chǎn)品核心技術(shù)以及獨創(chuàng)性已獲得業(yè)界的廣泛認可。
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報告人信息

報告人:顧維一,炬光科技泛半導(dǎo)體制程事業(yè)部副總經(jīng)理。畢業(yè)于西安工業(yè)大學(xué)電信學(xué)院,工學(xué)碩士學(xué)位,在激光應(yīng)用領(lǐng)域有超過十年的從業(yè)經(jīng)驗,專注于高功率半導(dǎo)體激光系統(tǒng)在先進制造和泛半導(dǎo)體領(lǐng)域的產(chǎn)品和應(yīng)用開發(fā),先后主導(dǎo)了炬光科技DLight H、DLight S及Flux H系列高功率半導(dǎo)體激光系統(tǒng)的產(chǎn)品開發(fā)。
會議介紹
本次報告將于2月24日(周五)14:10-14:30在線直播,歡迎掃描二維碼免費注冊報名,我們期待與您在直播間交流探討!
